옴니어스, 국제학회 ECCV서 의류 착장 AI 기술 공개
이미지와 텍스트만으로 가상 모델·의류 생성하는 AI 서비스 연내 공개
초개인화 커머스 AI 기업 옴니어스(주)가 이탈리아 밀라노에서 열리는 컴퓨터 비전 국제학회 ‘유럽컴퓨터비전학회(이하 ECCV)’서 가상 의류 착장 AI 기술을 주제로 한 연구 논문을 발표한다.
2년마다 개최되는 ECCV는 컴퓨터 비전 분야를 비롯, 이미지 및 영상 분석에 특화된 인공지능(AI) 기술의 최신 연구 발표가 진행되는 세계 최고 권위의 학회로 구글, 메타 등 글로벌 빅테크 기업과 AI 분야 석학들이 참여한다.
신진우 옴니어스 기술 고문위원이자 카이스트 AI 대학원 석좌교수 연구실과 공동으로 연구를 수행, 올해 논문 채택률 약 27.9%에 불과한 ECCV의 까다로운 심사 과정을 통과하며 AI 기술력을 인정받았다.
이번에 채택된 옴니어스의 논문은 ‘실제 환경에서 자연스러운 가상 착장을 위한 확산 모델 개선(Improving Diffusion Models for Authentic Virtual Try-on in the Wild)’으로 모델이 직접 의류를 착용할 필요 없이 AI를 통해 실제 착용한 것처럼 재현하는 방법을 제시했다.
이를 위해 옴니어스는 ▲스타일, 색상 등 의류의 전반적인 특성을 파악하는 모듈 ▲무늬, 질감, 주름, 장식 등 세부 특성을 파악하는 모듈을 기반으로 한 이중 분석 방식을 적용, 기존 이미지 생성 모델 대비 자연스러운 이미지 합성 결과물을 제공하는 연구 결과를 달성했다.
옴니어스는 연내 제품 이미지와 텍스트 설명만으로 의류부터 모델, 배경까지 생성하는 AI 서비스를 공개할 예정이다. 내년에는 글로벌 진출도 구상 중이다.
최형원 옴니어스 AI 연구소장은 “단순히 형태만 반영하는 것이 아닌 모델 체형이나 포즈에 따른 그림자나 구김까지 생생하게 표현하는 것이 차별점”이라며 “실제와 같은 이미지 생성으로 브랜드 고객사들의 온라인 쇼핑 환경 개선에 도움을 줄 수 있도록 지속적인 고도화에 나서겠다”고 말했다.
